電磁屏蔽室是利用導電或者導磁材料制成的各種形狀的屏蔽體，將電磁能力在一定空間范圍內(nèi)，用于抑制輻射干擾的金屬體。并對傳導和輻射進行處理，以實現(xiàn)給被測無線通訊設備提供無干擾的測試環(huán)境的設備。

　　先從屏蔽的基礎說起，一般認為交變電壓源近場為高阻抗場，主要分量為電場;而交變電流源近場為低阻抗場，主要分量為磁場。分析電磁場近場特性對屏蔽設計十分重要，對于高阻抗場，由于波阻抗大，主要是依靠反射損耗增加屏蔽效能;而對于低阻抗場，由于波阻抗十分小，反射損耗已經(jīng)可以忽略，主要是依靠吸收損耗增加屏蔽效能。

　　一是借助電路理論中的電磁感應原理

　　交變電磁場通過金屬材料表面時，金屬材料會由于感應電動勢而形成渦流。這個渦流所產(chǎn)生的磁場，正好與原來的磁場方向相反，從而抵消了部分原來的磁場，起到屏蔽作用。另外，由于金屬材料具有一定的電阻，渦流在金屬材料內(nèi)部產(chǎn)生熱消耗了部分入射電磁波的能力，同樣也起到了屏蔽的作用。

　　二是根據(jù)電磁場理論

　　電磁波在不同傳播媒質的界面，由于波阻抗的突變，電磁波會發(fā)生反射。另外，在傳輸媒質中，例如金屬材料內(nèi)部，電磁波會發(fā)生衰減。這種反射和衰減作用正好就說明金屬材料的屏蔽機理。

　　三是根據(jù)傳輸線理論

　　電磁波在有損耗的非均勻傳輸線中，由于傳輸線的阻抗與電磁波的阻抗不匹配，電磁波會發(fā)生反射現(xiàn)象，加上傳輸線是有損耗的，電磁波在傳輸過程中會發(fā)生衰減。這與電磁波理論分析中的反射和衰減十分類似，但是這種方法會比電磁波的分析方法更加簡便得多，也是目前電磁屏蔽分析中應用方法。